化學拋光設(she)備能夠處(chu)理表(biao)面(mian)強(qiang)化處(chu)理、降(jiang)低(di)金屬零件(jian)表(biao)面(mian)粗(cu)糙(cao)度、光(guang)亮拋(pao)光、鏡(jing)面(mian)拋(pao)光等(deng)難(nan)題，鎖(suo)使用(yong)的電(dian)機(ji)轉速(su)就(jiu)比較低(di)，摩擦(ca)產生(sheng)熱(re)有(you)可能燒毀物件(jian)。所使用(yong)的拋光(guang)輔料(liao)偏(pian)軟(ruan)、偏(pian)細等(deng)等(deng)。又(you)能換(huan)上拋(pao)光盤做車(che)漆護(hu)埋(mai)。化學拋光設(she)備較重，為2-3kg，但工作(zuo)起(qi)來(lai)非(fei)常平穩(wen)，不(bu)易損壞。此種機(ji)型的轉速(su)可以(yi)調節，適合(he)專業美(mei)容(rong)護(hu)理(li)人員(yuan)使用(yong)。簡(jian)易型拋光(guang)機(ji)實(shi)際上(shang)是(shi)鉆(zuan)機(ji)，體積(ji)小，轉速(su)不(bu)可調，使用(yong)時難(nan)掌(zhang)握(wo)平衡。

 

    要(yao)達(da)到的目標是(shi)磨(mo)削(xue)部(bu)分(fen)與工件(jian)未(wei)磨(mo)削(xue)部(bu)分(fen)的接縫(feng)基(ji)本消(xiao)失，工件(jian)表(biao)面(mian)進壹(yi)步光(guang)亮(liang)，通(tong)過(guo)本工序磨(mo)削(xue)後(hou)的工件(jian)要(yao)基(ji)本(ben)接(jie)近(jin)鏡(jing)面(mian)效果，同(tong)時還應使試(shi)樣(yang)自(zi)轉(zhuan)並(bing)沿轉(zhuan)盤半徑(jing)方向(xiang)來(lai)回(hui)移(yi)動(dong)，以(yi)避免拋(pao)光(guang)織(zhi)物局部(bu)磨(mo)損太快(kuai)，在化學拋光設(she)備拋光(guang)過(guo)程中(zhong)要(yao)不(bu)斷(duan)添(tian)加(jia)微粉(fen)懸(xuan)浮(fu)液，使拋(pao)光(guang)織(zhi)物保持(chi)壹(yi)定(ding)濕度(du)。濕度(du)太大(da)會(hui)減(jian)弱(ruo)拋(pao)光(guang)的磨痕(hen)作(zuo)用(yong)，使試(shi)樣(yang)中(zhong)硬相呈現浮(fu)凸和(he)鋼(gang)中(zhong)，非金屬夾(jia)雜(za)物及鑄鐵中(zhong)石墨相產生(sheng)。