化(hua)學機械(xie)研磨拋光(guang)設備了(le)壹(yi)場(chang)新的拋(pao)光(guang)技術(shu)革(ge)命，單(dan)純的化(hua)學拋光(guang)，拋光速(su)率(lv)較(jiao)快(kuai)，表面光潔度高(gao)，損傷低，性(xing)好，但(dan)表面平(ping)整度(du)和(he)平(ping)行(xing)度差(cha)，拋(pao)光(guang)後表(biao)面壹(yi)致性(xing)差(cha)；單(dan)純的機械(xie)拋光(guang)表面壹(yi)致性(xing)好，表(biao)面平(ping)整度(du)高(gao)，但(dan)表面光潔度差(cha)，損傷層(ceng)深(shen)；而化(hua)學機械(xie)研磨拋光(guang)設備在(zai)進行(xing)研磨拋光(guang)加工操(cao)作時(shi)，只需(xu)將被磨、拋材(cai)料(liao)放(fang)於(yu)平(ping)整的研(yan)磨盤(pan)上(shang)，研(yan)磨盤(pan)逆(ni)時(shi)鐘轉(zhuan)動(dong)，修(xiu)正輪(lun)帶動(dong)工件自(zi)轉(zhuan)，重(zhong)力(li)加壓(ya)或其(qi)它方式對工件施(shi)壓(ya)，工(gong)件與(yu)研(yan)磨盤(pan)作(zuo)相(xiang)對運(yun)轉(zhuan)磨擦(ca)，來(lai)達(da)到研磨拋光(guang)目的。

 

    測(ce)試和(he)開(kai)發各(ge)種(zhong)不同的微粒(li)，材(cai)料(liao)，濃(nong)度(du)，氧化(hua)劑，抑制(zhi)劑等的拋(pao)光(guang)液(ye)，溝(gou)槽(cao)形(xing)狀(zhuang)，尺(chi)寸(cun)，彈性(xing)，壽(shou)命等，測(ce)試和(he)發展(zhan)拋光墊調(tiao)節裝(zhuang)置來(lai)優化(hua)拋(pao)光(guang)墊的損耗率(lv)，修整，效率等，通(tong)過(guo)在(zai)晶(jing)圓墊和(he)調(tiao)節墊界(jie)面處的擁(yong)有(you)的傳(chuan)感(gan)器，測(ce)量負(fu)載和(he)摩(mo)擦(ca)力(li)，在(zai)晶(jing)圓墊和(he)調(tiao)節墊界(jie)面處的擁(yong)有(you)的傳(chuan)感(gan)器和(he)放(fang)大器，測(ce)量接(jie)觸噪(zao)聲(sheng)，使(shi)用(yong)聲(sheng)波(bo)表(biao)征的缺陷(xian)、劃痕，並在加工過(guo)程中分層(ceng)，化(hua)學機械(xie)研磨拋光(guang)設備進行(xing)過(guo)程中，拋光液(ye)對工件表(biao)面的化(hua)學腐(fu)蝕(shi)是(shi)拋(pao)光(guang)的*步,其(qi)腐(fu)蝕(shi)作(zuo)用(yong)是(shi)拋(pao)光(guang)液(ye)和(he)工(gong)件表(biao)面接觸時(shi),而新暴露(lu)出的工(gong)件表(biao)面,繼續被(bei)拋(pao)光化(hua)學腐(fu)蝕(shi)，這(zhe)種(zhong)化(hua)學作用(yong)與(yu)機械(xie)作用(yong)的不(bu)斷重(zhong)復(fu),使(shi)工件表(biao)面逐(zhu)漸(jian)光(guang)滑(hua),化(hua)學機械(xie)拋光(guang)過(guo)程綜合(he)了化(hua)學和(he)機械(xie)拋光(guang)的優(you)勢(shi)，單(dan)純的化(hua)學拋光(guang)，拋光速(su)率(lv)較(jiao)快(kuai)，單(dan)純機械(xie)拋光(guang)壹(yi)致性(xing)好,表(biao)面平(ping)整度(du)高(gao)。